- 荷兰当地时间1月23日，ASML发布了去(2018)年第四季度及全年的业绩报告。 报告指出，去年第四季度净销售额为31亿欧元，净收入为7.88亿欧元，毛利率为44.3%。 具体来看，ASML指出，DUV光刻业务中，存储客户的需求使得TWINSCAN
NXT:2000i保持着持续增长。同时ASML也提高了该产品的可靠性，据了解，上一代产品需要六个月才能达到高可靠性，而该产品仅用了两个月。 去年全年，ASML净销售额为109亿欧元，净收入为26亿欧元。 值得注意的是，ASML已与尼康签署了谅解
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EUV ASML
- 用于高端逻辑半导体量产的EUV(Extreme
Ultra-Violet，极紫外线光刻)曝光技术的未来蓝图逐渐“步入”我们的视野，从7nm阶段的技术节点到今年(2019年，也是从今年开始)，每2年~3年一个阶段向新的技术节点发展。 高端逻辑半导体的技术节点和对应的EUV曝光技术的蓝图。 也就是说，在EUV曝光技术的开发比较顺利的情况下，5nm的量产日程时间会大约在2021年，3nm的量产时间大约在2023年。关于更先进的2nm的技术节点，还处于模糊阶段，据预测，其量产时间最快也是在2026
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ASML EUV
- 12月19日晚间，中国首台ASML NXT2000i正式搬入SK海力士位于无锡的工厂。 据ASML证实，此次入驻SK海力士无锡工厂确为NXT2000i，也即NXT2000。ASML解释道，i是immersion的意思。NXT2000都是immersion的机器。所以NXT2000即NXT2000i。 据了解，无锡是SK海力士在中国的DRAM内存芯片生产基地，目前每月晶圆的产量约为14万片。 同时，SK海力士还成立了SK Hynix System
IC公司，开始进军晶圆代工市场，同时增加100
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ASML NXT2000i
- 半导体设备供应商的排名在2016-2017年间没有发生太大的变化，但是这种格局正在发生变化。不仅Lam
Research、ASML和东京电子的位次发生调转，排名第一的应用材料公司的宝座位置也岌岌可危。 自1990年以来，应用材料公司一直是半导体设备领域的市场领导者。在此之前的1989年，坐在铁王座位置上的还是日本的东京电子，该公司2016年排名第四，今年前三季度的新排名则是第二。除了位次的变化，也许更重要的是，领头羊和第二名的差距正在迅速收窄。 2016年，应用材料公司的市场份额比Lam
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ASML NAND
- 近日，中科院研制的“超分辨光刻装备”通过验收。消息传着传着，就成了谣言——《国产光刻机伟大突破，国产芯片白菜化在即》《突破荷兰技术封锁，弯道超车》《厉害了我的国，新式光刻机将打破“芯片荒”》……笔者帮您们捋一捋! 关于光刻机，这些知识您得知道 光刻机不光是制造芯片用。一张平面(不论硅片还是什么材料)想刻出繁复的图案，都可以用光刻——就像照相，图像投在感光底片上，蚀掉一部分。半个多世纪前，美国人用这个原理“印刷”电路，从而有了大规模集成电路——芯片。为了节能和省硅料，芯片越做越小，逼得光刻机越做越极
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光刻机 ASML
- 11月30日晚上，荷兰费尔德霍芬的一个科技园区发生火灾，ASML的一家供应商Prodrive遭受了重创，部分厂房与仓库遭受波及。12月3日，ASML发表声明称：“Prodrive供应ASML的部分电子元件和模组，ASML初步评估至2018年底的出货计划不变，但预期部分2019年初的出货将受影响。”ASML还表示需要几周的时间详细评估该事件对公司的影响。 ASML目前已开始协助Prodrive重启生产，同时ASML也已与其他供应商接洽，以确保相关组件和材料的替代来源供应无虞。 12月作为2018年最
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ASML 晶圆
- 中美贸易大战把当今最先进的半导体产业推上了风口浪尖上，整个产业链上，国内半导体芯片的产业发展就卡在IC制造这一块上了。
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ASML 光刻机
- 日前，有消息称，比利时研究机构Imec和微影设备制造商ASML计划成立一座联合研究实验室，共同探索在后3nm逻辑节点的奈米级元件制造蓝图。此次双方这项合作是一项为期五年计划的一部份，分为两个阶段： 首先是开发并加速极紫外光(EUV)微影技术导入量产，包括最新的EUV设备准备就绪。 其次将共同探索下一代高数值孔径(NA)的EUV微影技术潜力，以便能够制造出更小型的奈米级元件，从而推动3nm以后的半导体微缩。 极紫外光(EUV)微影技术 EUV光刻也叫极紫外光刻，它以波长为10-14 nm的极紫外
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ASML EUV
- 荷兰有着很好的经济基础，同时产业完善，产业起步本来就早，同时对半导体产业非常重视，注重商业的拓展和普及，而不只是在实验室弄研究。
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半导体 ASML
- 中国集成电路制造年会近日邀请到了光刻机霸主ASML(阿斯麦)中国区总裁沈波参加，他出面解答了一些媒体关心的话题。 尽管UMC(联电)和Globalfoundries(格罗方德，格芯)先后宣布放弃7nm制程及更先进工艺的研发，但ASML依然对EUV光刻机的前景表示乐观。 此前有消息指出，中芯国际(SMIC)今年已向ASML订购了一台EUV光刻机，预计明年交付，用于7nm节点。 同时，传统的沉浸式光刻机方面，沈波称，今年下半年ASML已开始出货家族最先进的NXT：2000i，很快会在中国市场上也见到
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ASML 光刻机
- 在高科技领域，美国这一年来加强了对中国人的防范，不只限于美国本土，就连欧洲公司也受到了美国政府的压力，荷兰ASML被曝禁止招收中国籍员工。 在光刻机领域，荷兰ASML公司几乎垄断了全球高端光刻机市场，在EUV光刻机中更是独一份，7nm及以后的工艺都要依赖EUV光刻机。在高科技领域，美国这一年来加强了对中国人的防范，不只限于美国本土，就连欧洲公司也受到了美国政府的压力，荷兰ASML被曝禁止招收中国籍员工。 如果说半导体产业是制造工业的皇冠，那么光刻机可以说是皇冠上的明珠，因为光刻机是半导体制造中最关
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ASML 光刻机
- 业界领先的特种化学及先进材料解决方案的公司Entegris(纳斯达克：ENTG)日前发布了下一代EUV 1010光罩盒，用于以极紫外(EUV)光刻技术进行大批量IC制造。Entegris的EUV 1010是与全球最大的芯片制造设备制造商之一的ASML密切合作而开发的，已在全球率先获得ASML的认证，用于NXE:3400B等产品。 随着半导体行业开始更多地使用EUV光刻技术进行先进技术制程的大批量制造(HVM)，对EUV光罩无缺陷的要求比以往任何时候都要严格。Entegris的EUV 1010光罩盒已
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Entegris EUV ASML
- 据外媒报道，光刻机霸主ASML(阿斯麦)已经开始出货新品Twinscan NXT：2000i DUV(NXT：2000i双工件台深紫外光刻机)，可用于7nm和5nm节点。 NXT：2000i将是NXE：3400B EUV光刻机的有效补充，毕竟台积电/GF的第一代7nm都是基于DUV工艺。 同时，NXT：2000i也成为了ASML旗下套刻精度(overlay)最高的产品，达到了和3400B一样的1.9nm(5nm要求至少2.4nm，7nm要求至少3.5nm)。 ASML将于本季度末开始量产Twin
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ASML 光刻机
- 荷兰有恩智浦、ASML、飞利浦等世界领先的半导体企业，而国内半导体产业的基础目前依旧薄弱。
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ASML 恩智浦
- 载具对于曝光机发挥保护、运送和存储光罩等功能十分重要。家登精密多年来致力于研究曝光机载具，并为全球最大的半导体设备制造商ASML提供载具相关技术。
我们主要研究EUV的配套技术，例如EUV的载具以及EUV的配套光罩，是7nm向5nm进阶的突破口。随着5nm技术的升级，EUV的重要性逐渐凸显出来，而载具的研究也越发紧迫。过去几年，家登精密一直专心做一件事，那就是载具的配套研究。去年，我们的技术产品已经达到国际先进水平，这是一个值得自豪的成绩。未来，7nm工艺逐渐向5nm升级，技术的研究会越来越困难
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