台积电2nm工艺提升不大:密度仅提升10%
日前,台积电全面公开了旗下的3nm及2nm工艺技术指标,相比3nm工艺,在相同功耗下,2nm速度快10~15%;相同速度下,功耗降低25~30%。性能及功耗看着还不错,但台积电的2nm工艺在晶体管密度上挤牙膏,只提升了10%,按照摩尔定律来看的话,新一代工艺的密度提升是100%才行,实际中也能达到70-80%以上才能算新一代工艺。
本文引用地址:http://www.amcfsurvey.com/article/202206/435318.htm台积电没有解释为何2nm的密度提升如此低,很有可能跟使用的纳米片电晶体管(Nanosheet)技术有关,毕竟这是新一代晶体管结构,考验很多。
台积电在2nm工艺上的挤牙膏,倒是给了Intel一个机会,因为后者预计在2024年就要量产20A工艺及改进版的18A工艺了,同样也是“2nm”级别的。目前两家的2nm工艺都是PPT上的,但是台积电这次的2nm工艺表现不尽如人意,这让Intel励志重回半导体工艺第一的目标有了可能。
评论