DUV光刻机出口许可被撤 ASML：中国订单已全数交付

近日光刻机巨头ASML发布公告称，去年2型DUV光刻机已获准的出口许可证突然遭到撤销，不过，中国大陆客户预付购买DUV光刻机所积压订单基本都已完成交付。

据ASML指出，2023年NXT：2050i、NXT：2100i光刻系统的出货许可证突然被撤销，不过这没有太多可以担心的地方，因为2023年ASML基本已交付了中国大陆客户预付的DUV积压订单，至于2023年之后是否能继续出口DUV光刻，在此之前本就无法确定。

《快科技》报导说，事实上2023年ASML一直都在向中国客户供应光刻机，其中就包含了NXT:2000i和更先进的DUV型号的产品。至于更先进的7nm以下更先进的EUV光刻机，ASML依然不能对中国客户出售。

据ASML官网提供的信息，该公司目前在售的主流浸没式DUV光刻机产品共有3款，分别是：TWINSCAN NXT:1980Di、TWINSCAN NXT:2000i、TWINSCAN NXT:2050i。

报导说，ASML官网上关于TNXT:1980Di介绍中指出，它在分辨率方面不小于38nm（可以支持到7nm左右），而这是指一次曝光分辨率，事实上光刻机是可以进行多次曝光。

至于DUV是否能进行7nm以下更先进的制程？据台积电前研发副总林本坚（Burn Lin）表示，依靠ASML的DUV光刻机，是可以继续将制程工艺从7nm再推向5nm，但要付出非常高昂的代价，至少需要进行4重曝光，耗时而且价格昂贵，还会影响整体良率。DUV最多可以做6重曝光，实现更先进的工艺，但问题与困难也会更多。