中微刻蚀设备获半导体设备类创新产品和技术大奖
中微半导体在刚刚召开的2009年 IC 市场年会上喜获设备类创新产品和技术大奖。此次“中国半导体创新产品和技术”评选活动是由颇具声望的中国半导体行业协会、中国电子材料行业协会、中国电子专用设备工业协会、中国电子报共同举办并经评选委员会按照评审条件和程序进行严格的综合评价。连续3次的全国评选活动表明了，中国对通过自主研发和积极创新，拥有自主知识产权和领先技术以及积极开发国际市场和灵活的商业模式而带动整个行业的进步表示的赞许和肯定。以研发和运营中心位于上海，中微作为高端的设备制造商而荣获殊荣。
另外，在不久前，中微公司也被英国行业内最有影响力的欧亚半导体杂志推举为集成电路行业2008年年度新公司奖。这个评选是对那些对半导体行业的进步起推动作用的业内的精英人物，制造工艺，以及产品的认可。中微公司由于其团队的技术优势及其研发和生产高附加值的关键设备而赢得业内广泛的认可。
中微公司是先进的以亚洲为基地的半导体设备公司。公司致力于通过技术创新提高产能从而降低制造成本，为全球先进的芯片生产厂家提供一系列高端的芯片生产设备。中微公司战略性地将总部设在全球半导体芯片制造
工业最集中的地区，提供独树一帜的拥有技术创新和成本解决方案的等离子刻蚀和化学薄膜沉积设备，为65和45纳米以及更高端的器件制造提供技术帮助和成本控制方案。
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