- 2010年全球存储器可能出现供应缺货，而且非常可能会延续下去。为什么?可能有三个原因，1)，存储器市场复苏;2)，前几年中存储器投资不足;3)，由ASML供应的光刻机交货期延长。
巴克菜投资公司的分析师 Tim Luke在近期的报告中指出，通过存储器的食物供应链看到大量的例证，认为目前存储器供应偏紧的局面将持续2010整年，甚至延伸到2011年。
据它的报告称，2010年全球NAND闪存的位增长可达70%，而2009增长为41%。2010年全球DRAM的位增长达52%。
Luke认为
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存储器 NAND 光刻机
- 2009年对于半导体设备制造商是不可忘怀之年。所有制造商都受到危机的影响，但是2010年半导体工业正处于恢复之中，然而设备制造商仍面临众多的挑战。
在SEMI主办的ISS会上Globalfoundries的fab2总经理 Norm Armour列出设备制造商面临的六大挑战。
1 兼并加剧
由于在有的设备类中仍有4-5家制造商，所以兼并将加剧。当然也有如光刻机，仅剩下两家，但是CVD，PVD，Etch仍显太多。
2 光刻机价格高耸
用在光刻上的投资越来越大(一台193nm浸
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半导体设备 光刻机 设备制造
- 在全球金融危机影响下，半导体业正进入前所未遇的严重衰退时期，半导体固定资产投资在2008年下降27.3%基础上，2009年将再下降34.1%。综合分析各大分析机构的预测数据，2009年全球半导体业年销售额的下降幅度将在15%到20%之间。
半导体设备业受灾最重
半导体产业链中设备业受到的影响相对最为严重。依Gartner公司的官方数据显示，全球半导体业固定资产投资两年来逐渐下滑，2007年为592亿美元，2008年下降了27.3%，为490亿美元，而09年将再次下降34.1%，为323亿美
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应用材料 半导体 存储器 处理器 光刻机 芯片制造 200906
- KLA-Tencor 公司（纳斯达克股票代码：KLAC）今天推出其领先业界的最新版计算光刻机 PROLITH 11。这种新型光刻机让用户首次得以评估当前的二次成像方案，并以较低的成本针对光刻在设计、材料与制程开发等方面挑战，尝试不同的解决方案。这种新型计算光刻机还支持单次成像和浸没技术。
KLA-Tencor 制程控制信息部副总裁兼总经理 Ed Charrier 指出：“由于光刻复杂性及实验成本的大幅增加，电路设计师与芯片制造商不得不面对二次成像光刻所带来的挑战。计算光刻已成为控制这
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KLA-Tencor 光刻机 二次成像光刻
- 中芯国际正悄悄从海外进口关键设备，欲抢在今年年底试产45纳米芯片，从而进入全球半导体代工业45纳米的“俱乐部”。
消息人士对《第一财经日报》透露，29日中芯国际上海12英寸厂采购浸润式光刻机已到位，“这标志着中芯国际在量产45纳米芯片方面有了生产保障。”
天价光刻机悄悄到厂
本报获悉，这是中国大陆的第一台浸润式光刻机，该设备由荷兰ASML生产，后者是全球这一领域的第一大供应商。上述消息人士透露，由于光刻机属高精密设备，为防止震动，从机场
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中芯国际 45纳米 芯片 半导体 台积电 光刻机
光刻机介绍
国外半导体设备
我公司拥有国外半导体设备,包括台湾3S公司生产的光刻机,涂胶台,
金丝球焊机,电子束蒸发台。
溅射台及探针台等各种设备,世界知名划片机企业英国Loadpoint公司生产的6英寸--12英寸
精密划片机，300毫米清洗机,。
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