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面向3nm及以下工艺,ASML新一代EUV光刻机曝光

  • 很快,台积电和三星的5nm工艺即将量产,与此同时,台积电和三星的3nm工艺也在持续的研发当中。而对于5nm及以下工艺来说,都必须依靠EUV(极紫外)光刻机才能实现。而目前全球只有一家厂商能够供应EUV光刻机,那就是荷兰的ASML。很快,台积电和三星的5nm工艺即将量产,与此同时,台积电和三星的3nm工艺也在持续的研发当中。而对于5nm及以下工艺来说,都必须依靠EUV(极紫外)光刻机才能实现。而目前全球只有一家厂商能够供应EUV光刻机,那就是荷兰的ASML。目前ASML出货的EUV光刻机主要是NXE:340
  • 关键字: 3nm  EUV  

三星最先进EUV产线投用:7nm产能今年增加两倍

  • 当前,有实力围绕10nm以下先进制程较量的厂商仅剩下Intel、台积电和三星三家。
  • 关键字: 三星  EUV  7nm  

EUV市场供不应求,ASML或取代应材登全球半导体设备龙头

  • 根据外媒报导,已经多年蝉联全球半导体设备龙头的美商应材公司(Applied Materials),2019年可能将其龙头宝座,让给以生产半导体制造过程中不可或缺曝光机的荷兰ASML,原因是受惠即紫外光刻设备(EUV)的市场需求大增,进一步拉抬了ASML的市占率表现。
  • 关键字: EUV  ASML  半导体设备  

ASML第三季接23台EUV系统订单

  • ASML近日发布2019年第3季财报。根据财报显示,ASML在2019年第3季销售净额(net sales)为30亿欧元,净收入(net income)为6.27亿欧元,毛利率(gross margin)43.7%。
  • 关键字: ASML  EUV  营运  

三星公布全球首颗 7nm EUV 芯片——Exynos 9825

ASML发布Q2季度财报 EUV光刻机产能大增

  • 掌握全球唯一EUV光刻机研发、生产的荷兰ASML(阿斯麦)公司今天发布了2019年Q2季度财报,当季营收25.68亿欧元,其中净设备销售额18.51亿欧元,总计出货了41台光刻机,其中EUV光刻机7台。
  • 关键字: 阿斯麦  极紫外光刻  EUV  

高通Snapdragon 865肥单 传交三星7纳米EUV制程生产

  • 韩国业界传出消息,指三星电子(Samsung Electronics)获高通(Qualcomm)新一代应用处理器(AP)Snapdragon 865(暂称)晶圆代工订单。2018年台积电(TSMC)抢走高通AP晶圆代工订单,如今再度回到三星手上,可望挹注三星晶圆代工事业部不少业绩。
  • 关键字: 高通  三星电子  NVIDIA  台积电  EUV  Snapdragon  Exynos处理器  

数字时报:台积电7nm+ EUV已开始量产

  • IT之家5月26日消息 据《数字时报》报道,台积电首席执行官表示,该公司7nm+ EUV已开始批量生产。这是台积电第一次、也是行业第一次量产EUV极紫外光刻技术。
  • 关键字: 台积电  7nm+   EUV  

三星5nm EUV研发完成:功耗降低20%

  • 在芯片代工领域,台积电和三星是实力最强劲的两大巨头。不过,最近几年,台积电的实力要更胜一筹,通过7nm工艺,台积电拿到了苹果、高通、AMD、比特大陆等多家的大订单。而三星自家最新的Exynos 9820处理器,采用的则还是8nm工艺。今天,三星在官网上带来了一个新消息,5nm EUV成功开发完成。这对三星而言,算是一个里程碑式的成就。三星表示,与7nm相比,5nm FinFET工艺功耗降低了20%,性能提高了10%。需要说明的是,三星的7nm工艺去年10月开始宣布并初步生产,今年年初实现量产。最近三星曝光
  • 关键字: 三星  EUV  5nm  

EUV光刻取得成功,Lasertec功不可没

  • 在经历了二十多年的研发之后,芯片制造商在一项能够大幅度提升硅片上晶体管密度的技术上压下了重注,那就是EUV光刻。他们能够取得成功,日本东京郊区的一家名为Lasertec小公司功不可没。
  • 关键字: EUV  Lasertec  

EUV技术 为摩尔定律延命

  • 随着晶片功能愈趋强大,在半导体制程愈趋复杂的情况下,摩尔定律的推进已经放缓,以台积电、三星、英特尔等三大半导体厂目前采用的浸润式(immersion)微影及多重曝影(multi-patterning)技术来说,若要维持摩尔定律的制程推进速度,晶片成本会呈现等比级数般飙升。也因此,能够明显减少晶片光罩层数的极紫外光(EUV)微影技术,将可为摩尔定律延命。
  • 关键字: EUV  摩尔定律  

传台积电今年将购入18台EUV光刻机,7nm EUV最快3月量产

  • 来自产业链的最新消息称,台积电将包揽ASML今年的30台EUV光刻机中的18台,加上之前采购的几台,台积电有望在今年3月份启动7nm EUV的量产,推动7nm在其2019年晶圆销售中的占比从去年的9%提升到25%。
  • 关键字: 台积电  7nm  EUV  

芯片设计企业该如何选择适合的工艺?

  • 如何向芯片设计企业推荐最合适的工艺,芯片设计企业应该怎么权衡?不久前,在珠海举行的“2018中国集成电路设计业年会(ICCAD)”期间,芯原微电子、Cadence南京子公司南京凯鼎电子科技有限公司、UMC(和舰)公司分别介绍了他们的看法。
  • 关键字: 芯片  EUV  

敞开拥抱中国,荷兰光刻机巨头ASML丝毫不受“大火”影响

  • 荷兰光刻机霸主阿斯麦(ASML)公司公布了2018年第四季度及全年业绩报告,而在当天的声明中,公司CEO彼得·维尼克(Peter Wennink)特别指出,中国对其产品的需求强劲,继续看好对中国的出口。
  • 关键字: ASML  EUV  

英特尔巨资升级美国D1X晶圆厂,上马7nm EUV工艺

  •   12月中旬英特尔宣布扩建美国俄勒冈州以及以色列、爱尔兰的晶圆厂产能。英特尔这次的产能扩张计划有对应14nm的,但是并不是应急用的,也有面向未来工艺的,其中俄勒冈州的D1X晶圆厂第三期工程就是其中之一,未来英特尔的7nm EUV处理器会在这里生产。  2018年下半年英特尔忽然出现了14nm产能不足的危机,这件事已经影响了CPU、主板甚至整个PC行业的增长,官方也承认了14nm产能供应短缺,并表示已经增加了额外的15亿美元支出扩建产能。12月中旬英特尔宣布扩建美国俄勒冈州以及以色列、爱尔兰的晶圆厂产
  • 关键字: 英特尔  晶圆  EUV  
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euv介绍

在半导体行业,EUV一般指EUV光刻,即极紫外光刻。 极紫外光刻(英语:Extreme ultra-violet,也称EUV或EUVL)是一种使用极紫外(EUV)波长的光刻技术。 EUV光刻采用波长为10-14纳米的极紫外光作为光源,可使曝光波长一下子降到13.5nm,它能够把光刻技术扩展到32nm以下的特征尺寸。 根据瑞利公式(分辨率=k1·λ/NA),这么短的波长可以提供极高 [ 查看详细 ]

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