首页  资讯  商机   下载  拆解   高校  招聘   杂志  会展  EETV  百科   问答  电路图  工程师手册   Datasheet  100例   活动中心  E周刊阅读   样片申请
EEPW首页 >> 主题列表 >> euv

柔弱的雕刻大师——EUV光刻机

  • 在如今这个信息时代,如果说我们的世界是由芯片堆积起来的高楼大厦,那么芯片制造,则是这里面高楼的地基,而谈到芯片制造各位读者自然就能想到光刻机,没错,作为人类商业化机器的工程奇迹,光刻机自然是量产高性能芯片的必要设备。特别是随着这几年中美贸易战的加剧,光刻机这种大部分可能一生都不会见到的机器一下子成了妇孺皆知的存在,那么光刻机是如何工作的呢?它是如何在方寸之间的芯片上雕刻出上百亿的晶体管的呢?本篇文章就着重给大家介绍一下目前最先进,也是我国被“卡脖子”的EUV(极紫外)光刻机。    &
  • 关键字: ASML  EUV光刻机  芯片  EUV  

ASML预测,未来九个月对中国的销量将大幅回升

EUV机台被砍单? 业界:不太可能

  • 终端市场需求低迷,近期市场传出台积电将宣布调降今年资本支出,恐冲击艾司摩尔(ASML)及应用材料等设备厂出货,甚至传出艾司摩尔极紫外光(EUV)机台被砍单消息,不过业界普遍认为可能性不高,原因在于EUV机台交期长达12~15个月,且中长期来看EUV产能仍供不应求。 ASML预计19日举行法人说明会,可望针对EUV曝光机已接订单(backlog)变化提出说明。半导体生产链仍在进行库存调整,市场传出台积电可能在法人说明会中下修全年资本支出,加上内存厂放慢扩产计划,将导致EUV曝光机订单减少或延后,受此消息影响
  • 关键字: EUV  机台  ASML  

国产光刻机的「行军难」

  • 3 月 8 日,ASML 发表声明回应荷兰政府即将出台的半导体设备出口管制措施。ASML 称,这些新的出口管制措施侧重于先进的芯片制造技术,包括最先进的沉积设备和浸润式光刻系统,ASML 将需要申请出口许可证才能发运最先进的浸润式 DUV 系统。ASML 强调,这些管制措施需要一定时间才能付诸立法并生效。3 月 9 日,外交部例行记者会上,有媒体提问,据报道,荷兰外贸与发展合作大臣施赖纳马赫尔向荷议会致函称,出于国家安全考虑,荷兰将于今年夏天之前对其芯片出口实施限制性措施。中方对此有何评论?外交部发言人毛
  • 关键字: 光刻机  EUV  DUV  

挑战 ASML,应用材料公司重新定义了光刻和图案化市场

  • EUV 太贵了,有其他解决方法吗?
  • 关键字: EUV  ASML    

2nm 工艺的计量策略

  • 晶圆制造工具正变得更加专用于 Si/SiGe 堆栈、3D NAND 和键合晶圆对。
  • 关键字: 2nm  EUV  

ASML堵了EUV光刻机的路,但国产光刻机有3大新方向

  • 众所周知,当前全球只有ASML一家能够生产EUV光刻机,甚至可以说很长一段时间内,全球也只有ASML能够生产光刻机,不会有第二家。原因在于ASML把EUV光刻机的路堵住了,这条路别人是走不通的。ASML与全球众多的供应链,形成了捆绑关系,像蔡司等与ASML形成了利益共同体,EUV光刻机中,蔡司等厂商至关重要,掌握核心科技,缺少这些供应链,其它厂商不可能制造出EUV光刻机。所以,目前众多的其它光刻机企业,并不打算走EUV光刻机这条路,在另寻它路。同样的,国产光刻机基本上也走不通EUV这条路,只能另寻他路,而
  • 关键字: ASML  EUV  光刻机  

美国发起的对华联合出口限制留下漏洞?

  • 据报道,荷兰和日本已与美国达成协议,共同限制向中国出口芯片制造工具,这将进一步削弱中国半导体行业的发展,因为除了限制中国制造商使用 EUV 光刻机外,进一步限制其使用浸没式 DUV 光刻机。但在美国对中国发起的严格出口限制中,中国半导体企业是否可以利用任何关键漏洞来缓冲冲击?这似乎是一个值得仔细研究的问题。近年来,美国加大了对中国半导体产业发展的打压力度。不仅设计了各种策略和行动,还动员了盟友的参与。在 2022 年 10 月对向中国出口先进芯片制造工具和技术实施全面出口限制后,美国急于让拥有 ASML
  • 关键字: EUV  DUV  深紫外光刻机  

EUV光刻机开始“落幕”了

  • 说到光刻机大家难免会想到三个厂商,荷兰的ASML公司、尼康和佳能。而光刻机就是制造芯片的核心装备。现如今光刻机领域的核心地位就是荷兰的ASML,他与台积电合作,共同突破了沉浸式DUV光刻机,也正因为此动作,才奠定了ASML在光刻机领域的核心地位。后续ASML又推出了更加高端的EUV光刻机,而且还是独家垄断生产。这就进一步使得ASML成为行业的巨头。随着科技的不断发展,市场就要越来越追求高性能以及高要求,ASLM造成的长时间垄断,导致其他同行没有办法发展。在他自身无法突破的前提下,他的路是越走越窄。在全球范
  • 关键字: 光刻机  ASML  DUV  EUV  

三星拟新设至少10台EUV光刻机:展露要当世界第一的野心

  • 最新消息显示,尽管全球经济将放缓,但三星仍计划扩大DRAM与晶圆代工的晶圆产能,明年在其P3晶圆厂新设至少10台极紫外光刻设备(EUV),用于生产最新的12nm级内存芯片,而三星目前仅有40台EUV光刻机。
  • 关键字: 三星  EUV  光刻机  

三星首次采用韩国本土EUV光刻胶 打破日企垄断

  • 据报道,三星首次引入韩国本土公司东进世美肯(Dongjin Semichem)研发的EUV光刻胶(EUV PR)进入其量产线,这也是三星进行光刻胶本土量产的首次尝试。在2019年经历与日本的光刻胶等关键原料的供应风波之后,三星就在尝试将关键原料的供应本土化,经过三年的努力,韩国实现了光刻胶本地化生产。在日本限制出口、三星尝试重构EUV光刻胶的供应链之后,东进世美肯就已开始研发EUV光刻胶,并在去年通过了三星的可靠性测试,随后不到一年就被应用于三星的大规模生产线。不过,EUV光刻胶可用于3-50道程序,目前
  • 关键字: 三星  韩国  EUV  光刻胶  

有多贵?ASML新EUV光刻机单台硬件造价2500亿:可买三台顶级航母

  • 都知道光刻机单台成本非常的贵,但是你知道有多贵吗?一台数亿美元的光刻机让我们看到了一款硬件设备的价格极限,然而,ASML CEO Peter Wennink最新接受媒体采访时透露,他们正在全力研制划时代的新光刻机high-NA EUV设备,而高NA EUV光刻机系统的单台造价将在300亿到350亿欧元之间,约合人民币2195到2561亿元。这个价格什么概念,一搜顶级航母的价格差不多在100亿美元左右,而这台硬件设备可以买三艘顶级航母,而ASML目前在售的双工件台EUV光刻机不过数亿美元,作为下一代产品身价
  • 关键字: 光刻机  ASML  EUV  

事关EUV光刻技术,中国厂商公布新专利

  • 近日,据国家知识产权局官网消息,华为技术有限公司于11月15日公布了一项于光刻技术相关的专利,专利申请号为202110524685X。集成电路制造中,光刻覆盖了微纳图形的转移、加工和形成环节,决定着集成电路晶圆上电路的特征尺寸和芯片内晶体管的数量,是集成电路制造的关键技术之一。随着半导体工艺向7nm及以下节点的推进,极紫外(extreme ultraviolet,EUV)光刻成为首选的光刻技术。相关技术的EUV光刻机中采用强相干光源在进行光刻时,相干光经照明系统分割成的多个子光束具有固定的相位关系,当
  • 关键字: EUV  光刻  华为  

美光:成功绕过了EUV光刻技术

  • 本周美光宣布,采用全球先进1β(1-beta)制造工艺的DRAM内存芯片已经送样给部分手机制造商、芯片平台合作伙伴进行验证,并做好了量产准备。1β工艺可将能效提高约15%,存储密度提升35%以上,单颗裸片(Die)容量高达16Gb(2GB)。一个值得关注的点是,美光称,1β绕过了EUV(极紫外光刻)工具,而依然采用的是DUV(深紫外光刻)。这意味着相较于三星、SK海力士,美光需要更复杂的设计方案。毕竟,DRAM的先进性很大程度上取决于每平方毫米晶圆面积上集成更多更快半导体的能力,各公司目前通过不断缩小电路
  • 关键字: 美光  EUV  光刻技术  

芯片巨头美光:成功绕过了EUV光刻技术

  •   本周美光宣布,采用全球最先进1β(1-beta)制造工艺的DRAM内存芯片已经送样给部分手机制造商、芯片平台合作伙伴进行验证,并做好了量产准备。  1β工艺可将能效提高约15%,存储密度提升35%以上,单颗裸片(Die)容量高达16Gb(2GB)。  一个值得关注的点是,美光称,1β绕过了EUV(极紫外光刻)工具,而依然采用的是DUV(深紫外光刻)。  这意味着相较于三星、SK海力士,美光需要更复杂的设计方案。毕竟,DRAM的先进性很大程度上取决于每平方毫米晶圆面积上集成更多更快半导体的能力,各公司目
  • 关键字: 美光  DRAM  内存芯片  光刻机  EUV  
共172条 3/12 « 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 » ›|

euv介绍

在半导体行业,EUV一般指EUV光刻,即极紫外光刻。 极紫外光刻(英语:Extreme ultra-violet,也称EUV或EUVL)是一种使用极紫外(EUV)波长的光刻技术。 EUV光刻采用波长为10-14纳米的极紫外光作为光源,可使曝光波长一下子降到13.5nm,它能够把光刻技术扩展到32nm以下的特征尺寸。 根据瑞利公式(分辨率=k1·λ/NA),这么短的波长可以提供极高 [ 查看详细 ]

热门主题

EUV    树莓派    linux   
关于我们 - 广告服务 - 企业会员服务 - 网站地图 - 联系我们 - 征稿 - 友情链接 - 手机EEPW
Copyright ©2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《电子产品世界》杂志社 版权所有 北京东晓国际技术信息咨询有限公司
备案 京ICP备12027778号-2 北京市公安局备案:1101082052    京公网安备11010802012473