新闻中心

EEPW首页 > 嵌入式系统 > 业界动态 > 中微蚀刻机与台积电合作 携手45纳米前进32纳米

中微蚀刻机与台积电合作 携手45纳米前进32纳米

作者:时间:2009-03-02来源:SEMI 收藏
        据DigiTimes网站报道,大陆本土设备业者尽管在与国际大厂应用材料(Applied Materials)及科林研发(Lam Research)官司缠讼之中,但开拓市场脚步未停歇,目前45台已经打入12寸厂,正在进行设备验证,同时也与韩国存储器业者合作当中。亚太区总经理朱新武表示,完全是走自主研发路线,目前不仅65/45机台已打入一线业者供应商行列,也已着手下1世代32制程技术研发。

        中微是目前大陆最具潜力的本土半导体设备业者,其设备已获得中芯国际12寸厂采用,主要投资者包括知名创投业者华登(Walden)、LightSpeed、Redpoint,以及投资银行高盛(Goldman Sachs)、半导体业者高通(Qualcomm)及科磊(KLA-Tencor)等。

本文引用地址:http://www.amcfsurvey.com/article/91874.htm

        中微表示,2008年10月完成C系列(Series C)集资动作后,所筹集资金1.69亿美元可因应到2011年营运所需不成问题。中微除投资者大有来头,最近与国际大厂的缠讼案也成为外界瞩目焦点,包括对上应用材料及科林研发等,据了解,与应用材料的商业秘密官司,有可能在近日内朝向和解方向发展,而科林在新竹提出的专利权诉讼,则将于近日内开庭,中微坚称设备专利都是自行研发。

        据了解,中微目前为就近台湾市场,也在新竹设立办公室就近服务客户,目前中微已打入供应商行列,其65/45纳米逻辑台正在12寸厂验证当中,顺利的话,下半年便可出货。此外,中微也与韩系存储器大厂合作中,并已投入下1世代32纳米制程技术机台研发。

        中微在2009年半导体年会也获得设备类技术奖,中微表示,目前超高频去耦型等离子共有2个反应腔,每个反应腔中都有3~4个反应室,目前采用技术即便是国际设备大厂的专利技术,也难以达成目前中微机台的蚀刻效率。



评论


相关推荐

技术专区

关闭